昭和真空
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主要指標

事業規模
売上高
9,324百万円
総資産
15,173百万円
稼ぐ力
ROE
7.3%
ROIC
13.1%
売上総利益率
32.8%
営業利益率
11.9%
純利益率
9.3%
EBITDAマージン
14.6%
FCFマージン
17.0%
総資産回転率
0.6
CCR
2.4
安全性
自己資本比率
80.2%
D/Eレシオ
4.7%
有利子負債比率
3.7%
還元
累進配当方針
-
非減配年数
11年
優待
なし

最新決算

2027-03 Q12026/08/06決算短信
売上高
YoY-41.0%
進捗 8.9%
Q1均等進捗比 -16.1pt
営業利益
YoY-
進捗 -27.3%
Q1均等進捗比 -52.3pt
純利益
YoY-
進捗 -35.2%
Q1均等進捗比 -60.2pt
EPS
YoY-
進捗 -35.2%
Q1均等進捗比 -60.2pt

事業内容

昭和真空は、真空技術応用装置を中心に、真空蒸着装置やスパッタリング装置の製造販売を行う。特に水晶デバイス、光学デバイス、電子部品向けに強みを持ち、構成部品や付属品の販売、改造工事、修理などのサービスも提供。アルバックグループとの協力を通じ、競合と協力を巧みに使い分けながら、薄膜形成装置の市場で確立された地位を誇る。 また、上海子会社を通じてグローバルに展開しており、特に電子部品や光学機器の分野でのニーズに対応した製品群を提供。 アルバックとの協力のもと、技術革新や新しい装置製造のニーズに対して柔軟に対応している。

セグメント

  • 真空技術応用装置: 真空蒸着装置やスパッタリング装置を中心とした装置群。用途別に水晶デバイス、光学装置、電子部品等に対応。

  • サービス: 真空技術応用装置の構成部品、付属品の販売、改造工事および修理サービス。

プロダクト

  • 真空蒸着装置: 特定の基板に薄膜を形成するための装置。主に水晶デバイス、光学デバイス、電子部品製造に使用される。

  • スパッタリング装置: 基板に薄膜を形成するための装置で、特に電子部品製造に使用される。

地域

  • 中国: 上海の子会社を通じて製造・販売活動を展開。

  • 日本: 国内での製造と販売が中心。

内訳チャート

セグメント別 売上高
セグメント別 利益
地域別 売上高
商品・サービス別 売上高

その他

企業情報
最新決算期
2026年3月期
会計基準
Japan GAAP
クチコミ・評判

主要財務

売上高と各段階利益
負債・純資産の構成
還元

タイムライン

最新決算

IRニュース

  • 2026/08/07資本

    譲渡制限付株式報酬としての自己株式の処分の払込完了に関するお知らせを掲載しました

  • 2026/08/06決算

    2027年3月期 第1四半期決算短信を掲載しました

  • 2026/07/17資本

    譲渡制限付株式報酬としての自己株式の処分に関するお知らせを掲載しました

  • 2026/06/26PRなど

    支配株主等に関する事項についてを掲載しました

  • 2026/06/26PRなど

    財務ハイライトを更新しました

大量保有

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昭和真空真空技術応用装置の製造販売、アルバックグループとの協力関係-------100.0