アルバック
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主要指標

事業規模
売上高
251,184百万円
総資産
375,062百万円
稼ぐ力
ROE
7.5%
ROIC
10.0%
売上総利益率
31.8%
営業利益率
10.6%
純利益率
6.6%
EBITDAマージン
14.9%
FCFマージン
9.6%
総資産回転率
0.7
CCR
2.1
安全性
自己資本比率
59.6%
D/Eレシオ
20.2%
有利子負債比率
12.4%
還元
累進配当方針
-
非減配年数
3年
優待
なし

最新決算

2026-06 Q42026/08/14決算短信
売上高
YoY+7.1%
進捗 105.5%
Q4均等進捗比 +5.5pt
営業利益
YoY-26.1%
進捗 70.0%
Q4均等進捗比 -30.0pt
純利益
YoY+2.4%
進捗 90.0%
Q4均等進捗比 -10.0pt
EPS
YoY+2.6%
進捗 90.0%
Q4均等進捗比 -10.0pt

事業内容

アルバックは真空技術を基盤に、真空機器事業と真空応用事業を展開する真空総合メーカーである。主に、半導体製造装置やFPD製造装置をはじめとする各種装置の提供を行い、顧客に高精度な製品を提供することに強みを持っている。また、スパッタリング装置やCVD装置、真空蒸着装置などを開発し、電子機器業界や半導体業界を中心に製品を供給している。 真空機器事業では、FPD、半導体製造装置を中心に多種多様な装置を取り扱い、真空応用事業では、材料や表面分析装置などの周辺技術に基づいた製品を提供している。 これにより、スマートフォンやPC、薄型テレビなどのエレクトロニクス部品が生産され、グローバルに広がる産業で活躍している。

セグメント

  • 真空機器事業: FPD製造装置、スパッタリング装置、プラズマCVD装置などを扱う

  • 真空応用事業: スパッタリングターゲット材料や表面分析装置などの応用技術を提供

プロダクト

  • スパッタリング装置: 真空中で金属などの材料に高エネルギー原子をぶつけ、成膜を行う装置

  • CVD装置: 原料ガスを供給し化学反応によって膜を堆積させる装置

  • 真空蒸着装置: 特定の物質を熱し、蒸発させて膜を形成する装置

地域

  • 日本: 国内での製造及び販売

  • アジア: アジア圏内での販売展開

  • 北米: 主に半導体製造装置の販売

内訳チャート

セグメント別 売上高
セグメント別 利益
地域別 売上高

その他

企業情報
最新決算期
2025年6月期
会計基準
Japan GAAP
クチコミ・評判

主要財務

売上高と各段階利益
負債・純資産の構成
還元

タイムライン

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企業事業ROE売上高
(百万円)
営業利益率従業員一人あたり
売上高
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営業利益
CAGRy3
配当
CAGRy3
類似度ブックマーク
アルバック真空技術を駆使した各種装置の開発・製造。電子機器・半導体産業に強み。-------100.0